リソグラフィ– category –
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フォトマスクとフォトレジスト、どう使い分ける?半導体製造プロセスの基礎
フォトマスクとフォトレジストは、光リソグラフィの中で異なる役割を担います。マスクは光のパターンを作る原版、レジストはウェハ上で露光と現像によって像を作る感光材料です。本記事では、二者を工程の順番に沿って比較します。 原版と、基板上の感光材... -
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意外と知らないレジストの世界 – 主成分とその作用を解明
フォトレジストは、光による反応を利用して微細な加工位置を決める感光材料です。代表的な製品は、樹脂、感光性成分、溶剤、添加剤を組み合わせることで、必要な膜と反応特性を作ります。すべての材料でポリマー自体が光に反応して硬化する、という一つの... -
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光硬化性樹脂とは?反応・照射条件とフォトレジストとの違い
光硬化性樹脂は、光をきっかけに重合や架橋などの反応を進め、硬化させる材料です。接着、コーティング、光造形などに使われます。ただし、光に反応する感光性材料がすべて同じように硬化するわけではありません。反応の仕組みと、製品ごとに確認すべき照... -
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感光性樹脂技術の基本!原理と特性をわかりやすく解説
感光性樹脂は、光による反応を利用して性質を変え、加工や形状形成に使う樹脂系材料です。半導体のフォトレジストから光造形まで用途は広い一方、反応は一種類ではありません。光で硬くなる材料と、現像液への溶けやすさが変わる材料を分けると、原理と使...